JX金屬株式會社在東京證交所Prime市場上市

X金屬株式會社於3月19日正式在東京證交所Prime市場IPO上市。JX金屬在2023年5月所發布的「JX金屬集團2040年長期願景」中，揭示了要從「設備產業型企業」轉型為「技術立足型企業」的基本方針，作為半導體及資通訊領域的設備、材料的供應商，朝向打造高盈利體質的目標前進。由於半導體及資通訊領域的設備、材料產業具有週期性波動的特性，JX金屬希望透過上市建立一個能快速做出決策的經營體制，並加速設備投資和技術差異化的研發。
JX金屬是全球半導體之濺射鍍膜（sputter coating）用靶材（target）供應商的領頭羊。濺射鍍膜是一種鍍膜的技術，藉由高能量的離子撞擊被稱為靶材的高純度金屬板，使靶材的原子被擊飛至氣體中在沉澱於晶圓或是基板上形成薄膜。

資料來源：JX金屬（2025年3月19日）

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